Fused Silica Napakahusay na Thermal At Chemical Properties Bilang Crucible Material
- Electro-quartz
- Pinagsamang kuwarts
- Fused silica lump
Maikling Paglalarawan
Mga aplikasyon
Ang Fused Silica ay isang mahusay na hilaw na materyal para sa paggamit sa investment casting, refractory, foundries, teknikal na ceramics, at iba pang mga application na nangangailangan ng pare-pareho, mataas na kadalisayan ng produkto na may napakababang thermal expansion.
| Komposisyong kemikal | Unang baitang | Karaniwan | Ikalawang Baitang | Karaniwan |
| SiO2 | 99.9% min | 99.92 | 99.8% min | 99.84 |
| Fe2O3 | 50ppm max | 19 | 80ppm max | 50 |
| Al2O3 | 100ppm max | 90 | 150ppm max | 120 |
| K2O | 30ppm max | 23 | 30ppm max | 25 |
Proseso Ng Produksyon At Katangian
Ang Fused Silica ay ginawa mula sa high purity silica, gamit ang natatanging fusion technology upang matiyak ang pinakamataas na kalidad.Ang aming Fused Silica ay higit sa 99% amorphous at may napakababang coefficient ng thermal expansion at mataas na resistensya sa thermal shock.Ang Fused Silica ay hindi gumagalaw, may mahusay na chemical stability, at may napakababang electrical conductivity.
Ang fused quartz ay may mahusay na thermal at chemical properties bilang crucible material para sa solong paglaki ng kristal mula sa pagkatunaw, at ang mataas na kadalisayan at mababang halaga nito ay ginagawang mas kaakit-akit para sa paglaki ng mga high-purity na kristal. Gayunpaman, sa paglago ng ilang uri ng mga kristal, a ang layer ng pyrolytic carbon coating ay kailangan sa pagitan ng melt at ng quartz crucible.
Mga Pangunahing Katangian ng Fused Silica
Ang fused silica ay may ilang mga kahanga-hangang katangian kapwa tungkol sa mekanikal, thermal, kemikal at optical na katangian nito:
• Ito ay matigas at matatag, at hindi masyadong mahirap i-machine at polish.(Maaari ring maglapat ng laser micromachining ang isa.)
• Ang mataas na temperatura ng paglipat ng salamin ay nagpapahirap sa pagtunaw kaysa sa iba pang mga salamin sa mata, ngunit ipinahihiwatig din nito na ang medyo mataas na temperatura ng operasyon ay posible.Gayunpaman, ang fused silica ay maaaring magpakita ng devitrification (lokal na crystallization sa anyo ng cristobalite) sa itaas ng 1100 °C, lalo na sa ilalim ng impluwensya ng ilang mga bakas na impurities, at ito ay masisira ang optical properties.
• Napakababa ng thermal expansion coefficient – mga 0.5 · 10−6 K−1.Ito ay ilang beses na mas mababa kaysa sa karaniwang mga baso.Kahit na mas mahina ang thermal expansion sa paligid ng 10−8 K−1 ay posible sa isang binagong anyo ng fused silica na may ilang titanium dioxide, na ipinakilala ni Corning [4] at tinatawag na ultra low expansion glass.
• Ang mataas na thermal shock resistance ay resulta ng mahinang thermal expansion;mayroon lamang katamtamang mekanikal na stress kahit na ang mga gradient ng mataas na temperatura ay nangyayari dahil sa mabilis na paglamig.
• Ang silica ay maaaring napakadalisay sa kemikal, depende sa paraan ng paggawa (tingnan sa ibaba).
• Ang silica ay medyo hindi gumagalaw sa kemikal, maliban sa hydrofluoric acid at mga solusyon sa malakas na alkalina.Sa mataas na temperatura, medyo natutunaw din ito sa tubig (higit na higit sa crystalline quartz).
• Ang rehiyon ng transparency ay medyo malawak (mga 0.18 μm hanggang 3 μm), na nagpapahintulot sa paggamit ng fused silica hindi lamang sa buong nakikitang spectral na rehiyon, kundi pati na rin sa ultraviolet at infrared.Gayunpaman, ang mga limitasyon ay lubos na nakasalalay sa kalidad ng materyal.Halimbawa, ang malakas na infrared absorption band ay maaaring sanhi ng OH content, at UV absorption mula sa mga metal na dumi (tingnan sa ibaba).
• Bilang isang amorphous na materyal, ang fused silica ay optically isotropic - kabaligtaran sa crystalline quartz.Ipinahihiwatig nito na wala itong birefringence, at ang refractive index nito (tingnan ang Figure 1) ay maaaring mailalarawan sa isang solong Sellmeier formula.
